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各種 CVD
  • PECVD等離子體增強(qiáng)化學(xué)... 化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積技術(shù),能夠利用高能量等離子體促進(jìn)反應(yīng)過(guò)程,有效提升反應(yīng)速度,降低反應(yīng)溫度。適用...
  • CVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) CVD(化學(xué)氣相沉積)氣相沉積系統(tǒng)是一種常用的薄膜制備技術(shù),通過(guò)在高溫下將氣體反應(yīng)物質(zhì)與基底表面反應(yīng),形成薄膜
  • 派瑞林真空氣相沉積 派瑞林真空氣相沉積(PECVD)是一種常用的薄膜沉積技術(shù),用于在材料表面上制備薄膜。它是在真空環(huán)境中使用氣相化學(xué)反應(yīng)來(lái)沉...
  • PECVD氣相沉積 PECVD氣相沉積在超大規(guī)模集成電路、光電器件、MEMS等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用
  • 旋轉(zhuǎn)等離子增強(qiáng)CVD化學(xué)沉... 旋轉(zhuǎn)等離子增強(qiáng)CVD化學(xué)沉積系統(tǒng)十分適合在氣氛保護(hù)的環(huán)境下連續(xù)對(duì)粉末材料用CVD方法進(jìn)行包裹和修飾,旋轉(zhuǎn)等離子增強(qiáng)CVD...
  • 雙溫區(qū)滑道旋轉(zhuǎn)管式爐CVD... 雙溫區(qū)滑道旋轉(zhuǎn)管式爐CVD系統(tǒng)十分適合在氣氛保護(hù)的環(huán)境下連續(xù)對(duì)粉末材料用CVD方法進(jìn)行包裹和修飾,雙溫區(qū)滑道旋轉(zhuǎn)管式爐C...
  • 等離子增強(qiáng)物理化學(xué)氣相沉積... 等離子增強(qiáng)物理化學(xué)氣相沉積HPCVD包括一臺(tái)雙溫區(qū)管式爐,一套鎢絲蒸發(fā)源,一套等離子發(fā)生裝置以及一套質(zhì)量流量計(jì)系統(tǒng),等離...
  • 晶圓級(jí)大尺寸二硫化鉬制備裝... 晶圓級(jí)大尺寸二硫化鉬制備裝置包括三溫區(qū)管式爐,特殊設(shè)計(jì)的爐管及配套氣路一組,晶圓級(jí)大尺寸二硫化鉬制備裝置通過(guò)特殊設(shè)計(jì)的管...
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